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KG 工業級粉末ALD

能夠在微米級粉末表面包覆原子層級到納米層級范圍內的厚度，具有超高靈敏度、均一性和重復性；全自動原位厚度測試系統，實時觀測生長速率及厚度功能，系統具有較高整體性和穩定性，并具有較高的自動化程度，操作方便、擴展靈活。

SCA 工業級粉末CVD

進行硅沉積/碳包覆，可實現高沉積均勻性與高包覆完整性，具備優異的批次穩定性與重復性

MINI 科研型桌式ALD

MINI是一款尺寸超小、操作簡單、功能強大的桌面式ALD系統，它可以在4寸晶圓和微納米粉體上實現均勻可控的原子層沉積，是先進能源材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發工具。

GM 研發型粉末ALD

GM系列自動粉末原子層沉積設備可以在微納米粉體上實現均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長。該系統具有專利粉末樣品桶、動態粉末流化機構、全自動溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業級安全控制等設計選項，是先進能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發工具。