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- QBT-P Dual-chamber Ultra-high Vacuum Magnetron Sputtering System
- QBT-MP·L3 Multi-chamber Ultra-high Vacuum Magnetron Sputtering System
- CBATCH 100s Batch Thermal ALD
- GM R&D Powder ALD
- QBT-I Dual-chamber High-speed Evaporator
- QBT-MPC Multi-target Ultra-high Vacuum Magnetron Co-Sputtering System
- QBT-MPV Multi-target Ultra-high Vacuum Magnetron Vertical Sputtering System
- QBT-P L3 Triple-chamber Ultra-high Vacuum Magnetron Sputtering System(α-Ta、Nb-Ta)
- PVD-100 Dual-chamber High Vacuum Magnetron Sputtering System
- KG Powder ALD for Mass Production
- SCA Powder CVD for Mass Production
- QBT-A High Vacuum Plasma-enhanced ALD System
- QBT-J Four-chamber Ultra-high Vacuum GLAD System
- QBT-E Dual-chamber Ultra-high Vacuum Electron Beam Evaporator
- SICE-Y8 SiC Epitaxy CVD System
- PBATCH Batch PEALD
- QBT-T Dual-chamber Plasma-enhanced Wafer and Powder ALD System
- MINI R&D Desktop ALD
- CBATCH 300s Batch Thermal ALD
- MPCVD Diamond CVD
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