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產(chǎn)品分類
產(chǎn)品
- QBT-J 300 超高真空互聯(lián)多腔體互聯(lián)約瑟夫森結(jié)制造系統(tǒng)
- QBT-A 300 CLUSTER 高真空等離子體 ALD 集群系統(tǒng)
- QBT-ADS 雙腔高真空雙面鍍膜PEALD設(shè)備
- QBT-MPC 2000 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
- PBATCH 批次等離子體ALD
- CBATCH 100s 批次熱ALD
- CBATCH 300s 批次熱ALD
- MPCVD 金剛石CVD
- SICE-Y8 碳化硅外延CVD系統(tǒng)
- KG 工業(yè)級(jí)粉末ALD
- SCA 工業(yè)級(jí)粉末CVD
- QBT-A 雙腔室高真空等離子體ALD
- MINI 科研型桌式ALD
- PVD100 雙腔室高真空磁控濺射系統(tǒng)
- QBT-P 雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
- QBT-P L3 三腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
- QBT-MPV 雙腔室多靶槍公轉(zhuǎn)超高真空磁控濺射系統(tǒng)
- QBT-MPC 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射系統(tǒng)
- QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
- QBT-J 四腔室雙傾角超高真空鍍膜系統(tǒng)
- QBT-E 雙腔室超高真空電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
- QBT-I 雙腔室高速鍍膜系統(tǒng)
- GM 研發(fā)型粉末ALD
- QBT-T 雙腔室等離子體硅片及粉末ALD
應(yīng)用領(lǐng)域
新聞
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