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Plasma Batch ALD 相關產品
PBATCH 批次等離子體ALD
可實現低溫高質量的等離子體增強原子層沉積工藝，兼容熱式ALD工藝，可在玻璃、有機材料、高分子材料、金屬或陶瓷等材質的基底沉積SiO2、Al2O3、TiO2等高質量的薄膜。該設備具有極優的鍍膜均勻性、重復性及可靠性，同時兼顧行業領先的產能及良率。
PBATCH-A300 批次等離子體ALD（EFEM可選）
可實現低溫高質量PEALD工藝，可在溫度敏感的襯底上，沉積SiO2、Al2O3、TiO2等高質量的光學薄膜。亦可在玻璃、硅片、陶瓷、有機材料、高分子材料、金屬等材質的基底沉積多種類型的ALD薄膜?？赏瑫r兼容熱式ALD及等離子體增強ALD工藝。批次性大產能結構設計，大幅提高ALD產能，降低客戶使用成本。單位時間內的處理量超越傳統PVD鍍膜設備。
Multi Pbatch 批次等離子體ALD
Multi Pbatch ALD設備可在極寬的溫度窗口(50℃-300℃)內，實現高質量的等離子體增強原子層薄膜沉積工藝，并兼容純熱式原子層薄膜沉積工藝。可在4、6、8、12英寸硅晶圓、化合物晶圓、玻璃晶圓、玻璃鏡片、有機高分子鏡片、金屬或陶瓷等材質的基底沉積SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5、AlN、TiN等高質量的薄膜。該設備具有極優的鍍膜均勻性、重復性及可靠性，同時兼顧優異的產能、良率，及成本控制。
