產(chǎn)品
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Single Wafer ALD 相關(guān)產(chǎn)品
QBT-ADS 雙腔高真空雙面鍍膜PEALD設(shè)備
QBT-A 雙腔室高真空等離子體ALD
高真空等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)QBT-A，是國(guó)內(nèi)首家適用于高端研發(fā)及生產(chǎn)制造的HV-PEALD。QBT-A主要應(yīng)用于高質(zhì)量ALD薄膜沉積制備（氧化物、氮化物、金屬單質(zhì)），高真空設(shè)計(jì)降低系統(tǒng)泄露率，配備無(wú)氧陶瓷等離子發(fā)生器、氣體純化器、4路雙管源瓶。它能夠?qū)崿F(xiàn)超低射頻電路損耗、高深寬比TSV 填充、超低氧含量。
MINI 科研型桌式ALD
MINI是一款尺寸超小、操作簡(jiǎn)單、功能強(qiáng)大的桌面式ALD系統(tǒng)，它可以在4寸晶圓和微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積，是先進(jìn)能源材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的最佳研發(fā)工具。
