工業型設備
研發型設備
ALD
Plasma Batch ALD
PBATCH 批次等離子體ALD
Thermal Batch ALD
CBATCH 100s 批次熱ALD
CBATCH 300s 批次熱ALD
12 inch ALD
QBT-A 300 CLUSTER 高真空等離子體 ALD 集群系統
CVD
MPCVD 金剛石CVD
Epitaxy
SICE-Y8 碳化硅外延CVD系統
Powder ALD/CVD
KG 工業級粉末ALD
SCA 工業級粉末CVD
PVD
QBT-J 300 超高真空互聯多腔體互聯約瑟夫森結制造系統
Single Wafer ALD
QBT-ADS 雙腔高真空雙面鍍膜PEALD設備
QBT-A 雙腔室高真空等離子體ALD
MINI 科研型桌式ALD
Sputter
單陰極垂直濺射系列
PVD100 雙腔室高真空磁控濺射系統
QBT-P 雙腔室超高真空磁控濺射系統
QBT-P L3 三腔室超高真空磁控濺射系統
多陰極垂直濺射系列
QBT-MPV 雙腔室多靶槍公轉超高真空磁控濺射系統
多陰極共聚焦濺射系列
QBT-MPC 2000 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射鍍膜系統
QBT-MPC 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射系統
定制系列（MP L）
QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控濺射系統
Evaporator
QBT-J 四腔室雙傾角超高真空鍍膜系統
QBT-E 雙腔室超高真空電子束蒸發鍍膜系統
QBT-I 雙腔室高速鍍膜系統
Powder ALD
GM 研發型粉末ALD
QBT-T 雙腔室等離子體硅片及粉末ALD
產品
PRODUCT
產品分類
Powder ALD 相關產品
GM系列自動粉末原子層沉積設備可以在微納米粉體上實現均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長。該系統具有專利粉末樣品桶、動態粉末流化機構、全自動溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業級安全控制等設計選項，是先進能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發工具。
用于微納加工，粉末或極片包覆。
