PBATCH 批次等離子體ALD
產品概況
可實現低溫高質量的等離子體增強原子層沉積工藝，兼容熱式ALD及等離子體增強ALD工藝，可在玻璃、有機材料、高分子材料、金屬或陶瓷等材質的基底沉積SiO2、Al2O3、TiO2等高質量的薄膜。該設備具有極優的鍍膜均勻性、重復性及可靠性，同時兼顧行業領先的產能及良率。
技術優勢
可見光范圍內反射率R<0.05%
鍍膜均勻性、重復性及可靠性業界領先
最大樣品尺寸12寸,實現全自動、多片、大批量生產
可在整個鏡片的外表面及3D微納結構上進行保形沉積
批次性多腔結構設計大幅提高產能，顯著降低ALD技術的使用成本
可在同一工藝腔室內實現等離子體清洗，及SiO2、Al2O3、TiO2不同薄膜的任意組合交替沉積
應用領域
FAQ
PBATCH主要應用在什么領域?
應用與光學模組、鏡頭、傳統COB、先進封裝等
PBATCH可以做AR膜層嗎?
可以。極致AR膜層全反射率，可見光波段內，反射率<0.1%
