CBATCH 100s 批次熱ALD
產品概況
4/6 inch LED 生產線的原子層沉積系統，面向圖形化和平面藍寶石襯底微納器件氧化層封裝鍍膜的需要。
技術優勢
專利的架構設計，有效提高產能，降低COO
可擴展模塊設計，產能、腔體增加同時保證鍍膜質量
獨特氣流設計，多片鍍膜保持良好的WIW均勻性?NU<1.5%,W2W<2.5%,B2B<2.5%，前驅體消耗量更少
應用領域
FAQ
CBATCH的控溫均勻性如何?
工藝腔采用內、外腔設計，具有出色的溫控均勻性
CBATCH的對顆粒度的控制如何?
腔體內部采用高真空傳輸，極致Particle表現，實現高潔凈度生產
CBATCH的主要有哪些領域的工藝應用?
mini LED背光鈍化、RGB紅黃提亮及鈍化、高功率GaN LED鈍化、Vcsel鈍化、Micro LED顯示側壁鈍化等
CBATCH的做出的膜層相較其他競品有什么優勢?
1、提高器件雙85良品率； 2、降低器件反向漏電； 3、超大產能有效降低COO； 4、多腔體設計可保證更高的潔凈度，適合Micro LED及微顯示、車載等高端產品量產等
相關產品
