QBT-MPC 2000 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
QBT-ADS 雙腔高真空雙面鍍膜PEALD設(shè)備
QBT-A 300 CLUSTER 高真空等離子體 ALD 集群系統(tǒng)
QBT-J 300 超高真空互聯(lián)多腔體互聯(lián)約瑟夫森結(jié)制造系統(tǒng)
PBATCH 批次等離子體ALD
CBATCH 100s 批次熱ALD
CBATCH 300s 批次熱ALD
MPCVD 金剛石CVD
SICE-Y8
碳化硅外延CVD系統(tǒng)
KG 工業(yè)級(jí)粉末ALD
SCA 工業(yè)級(jí)粉末CVD
QBT-A
雙腔室高真空等離子體ALD
MINI 科研型桌式ALD
PVD100
雙腔室高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-P
雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-P L3
三腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MPV
雙腔室多靶槍公轉(zhuǎn)超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MPC
雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-J
四腔室雙傾角超高真空鍍膜系統(tǒng)
QBT-E
雙腔室超高真空電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
QBT-I
雙腔室高速鍍膜系統(tǒng)
GM 研發(fā)型粉末ALD
QBT-T
雙腔室等離子體硅片及粉末ALD
產(chǎn)品概況
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
